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NewArc復(fù)合電弧蒸發(fā)技術(shù)
NewArc復(fù)合電弧蒸發(fā)技術(shù)是在傳統(tǒng)電弧蒸發(fā)技術(shù)的基礎(chǔ)上進行改進,其效果對比傳統(tǒng)電弧優(yōu)點如下:
①采用永磁和電磁的復(fù)合磁場驅(qū)動,弧斑移動更快,弧斑更細碎,有效抑制“微液滴”
②通過電磁場電壓和頻率的變化,能夠控制弧斑的運動,使得靶材燒蝕更加均勻,靶材利用率高
③復(fù)合磁場能夠?qū)⒌入x子體推向被鍍工件,增強了工件附近的等離子密度,改變了沉積反應(yīng)環(huán)境
④可實現(xiàn)對涂層微觀組織結(jié)構(gòu)的有效調(diào)控,大幅度提高涂層的綜合性能。