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氣離刻蝕清洗技術(shù)

氣體離子刻蝕清洗及輔助沉積技術(shù)的基本原理如下:

① 在涂層前,利用氣體離子源將氬氣和氫氣離化,產(chǎn)生的氣體離子(Ar+和H+)在偏壓作用下,對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行刻蝕清洗;

② 在涂層中,利用氣體離子源將氬氣、氮?dú)?、氧氣等反?yīng)氣體離化,輔助磁控濺射或電弧沉積;

氣體離子刻蝕清洗及輔助沉積優(yōu)點(diǎn)有:


① 氣體等離子體能量范圍寬,可強(qiáng)可弱,適用于各種類型的工件;

② 有效去除表面氧化層,刻蝕清洗效果更徹底,膜基結(jié)合力好;

③ 輔助沉積,有利于涂層致密性、改善鍍膜均勻性;

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