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HIPIMS是高功率脈沖磁控濺射技術(shù)（High power impulse magnetron sputtering）的簡(jiǎn)稱，其原理是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來(lái)產(chǎn)生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術(shù)，HIPIMS的峰值功率可以達(dá)到MW級(jí)別，但由于脈沖作用時(shí)間短，其平均功率與普通磁控濺射一樣，這樣陰極不會(huì)因過(guò)熱贈(zèng)增加靶材冷卻。HIPIMS綜合了磁控濺射低溫沉積、表面光滑、無(wú)顆粒缺陷和電弧離子鍍金屬離化率高、膜層結(jié)合力強(qiáng)、涂層致密的優(yōu)點(diǎn)，且離子束流不含大顆粒，在控制涂層微結(jié)構(gòu)的同時(shí)獲得優(yōu)異的膜基結(jié)合力，在降低涂層內(nèi)應(yīng)力及提高膜層致密性、均勻性等方面具有優(yōu)勢(shì)，特別是在硬質(zhì)涂層和功能涂層的應(yīng)用方面有顯著優(yōu)勢(shì)。

目前，我公司采用的HIPIMS電源是霍廷格TruPlasma Highpulse 4000 系列電源。同時(shí)附贈(zèng)霍廷格公司的PVD Power軟件。

多語(yǔ)種軟件 PVD Power 用戶界面易操作，提供多方面的操作、配置及診斷方法，以此優(yōu)化工藝質(zhì)量和有效排除故障：顯示所有相關(guān)工藝參數(shù)的實(shí)際值以及警告和報(bào)警消息、由操作員規(guī)定目標(biāo)值和以較高的時(shí)間分辨率記錄重要運(yùn)行參數(shù)并進(jìn)行可視化（示波器功能）。